Ключевая веха в истории: Intel заказала первый инструмент для иммерсионной литографии

Очень интересное, но на первый взгляд, невзрачное сообщение мелькнуло сегодня в ленте новостей одного из онлайновых ежедневных изданий о производстве полупроводников да и куда-то запропастилось. Между тем, не исключено, что именно с этого сообщения может начаться новая страница в истории развития производственных мощностей компании Intel.

Итак, сегодня сайт Silicon Strategies в краткой заметке сообщил о том, что компания Intel заказала у одного из ведущих производителей литографического оборудования голландской компании ASML Holding NV своей первый 193 нм инструмент для иммерсионной литографии. Название инструмента в заметке не приводится, но судя по всему, речь идет о литографической системе Twinscan AT:1150i от ASML.

Сообщение гласит, что инструмент будет доставлен и установлен до конца 2004 года. Особенное любопытство в сообщении о покупке первого иммерсионного инструмента вызывает тот факт, что до этого Intel никоим образом не обозначала иммерсионную литографию в своих будущих производственных планах. Напомню, что при переходе на нормы 65 нм техпроцесса компания будет использовать традиционные 193 нм литографические инструменты, а сразу вслед за ними планировался ввод в коммерческую эксплуатацию установок сверхглубокого ультрафиолета (EUV-литография).

Подробности о текущих производственных планах Intel по выпуску процессоров вы можете найти в нашем материале Intel, 65 нанометров - предстартовый отсчет пошел.... Помнится, рассматривая планы компании на ближайшие пять лет мне как раз показалось странным, что компания переходит к EUV-литографии при внедрении техпроцесса P1266 с 32 нм нормами, но ничего толком не ясно с промежуточной технологией для работы с 45 нм нормами, а там уж точно никакой сдвиг масок с чередующейся фазой (Alternating Phase Shift Masks) не поможет остаться на старом 193 нм оборудовании. Очевидно, что ввод в строй иммерсионного оборудования позволит Intel заполнить эту нишу.

Надеюсь, что в самое ближайшее время удастся пролить свет на подробности приобретения Intel для иммерсионной литографии. Возможно, уже до конца года мы узнаем о значительном изменении производственных планов компании. Уже сейчас известно, что поставки таких инструментов в адрес Intel наряду с ASML готова начать и японская Nikon, был бы спрос. На недавней пресс-конференции Intel в начале сентября, посвященной выпуску первых чипов SRAM с нормами 65 нм, Марк Бор (Mark Bohr), старший директор подразделения Intel Process Architecture & Integration, от прямых комментариев по поводу возможного ввода в планы компании иммерсионной литографии отказался, однако заметил, что Intel не исключает такой возможности.

Источник новости: Silicon Strategies