EUV-литография становится все более реальной
В рамках проходящей в г. Сан-Хосе конференции SPIE Advanced Lithography, посвященной современным проблемам литографии, компании Philips Extreme UV и Xtreme Technologies отрапортовали об очередном прорыве в создании источников для литографических сканеров, использующих жесткое ультрафиолетовое излучение (EUV). Присутствующим был представлен новый лазерный газоразрядный источник излучения с пиковой мощностью 500 Вт. Рабочая частота источника составляет 100 кГц.
12.jpg
Напомним, что малая мощность источников излучения (целевая мощность составляла на данный момент всего 180 Вт), наряду с недостаточным качеством фотомасок и резиста являются основными препятствиями в продвижении EUV-литографии. Плюсом к тому, ожидаемая дороговизна сканеров заставляет целый сонм отраслевых аналитиков выступать с негативными прогнозами по поводу шансов технологии когда-нибудь попасть на рынок.
Голландская Philips Extreme UV и немецкая Xtreme Technologies объявили об объединении усилий в разработке источников излучения для EUV-сканеров в октябре 2007 года. Целью альянса называлась разработка компонентов для литографического оборудования, способного успешного конкурировать на рынке с признанными авторитетами отрасли, и прежде всего с американской Cymer Inc.
Источник новости: 3dnews.ru