ASML поможет организовать производство полупроводников по 36,5-нм техпроцессу до конца года

Уже в нынешнем году многие производители полупроводников могут освоить массовый выпуск продукции с использованием норм 36,5-нм техпроцесса. А поводом для этого станет начало поставок первой в мире промышленной литографической системы TWINSCAN XT:1900i, которую компания ASML намерена отправить своим заказчикам к концу этого года.

Столь малого размера формируемых полупроводниковых структур, а также повышения их качества, разработчикам удалось добиться с помощью технологии иммерсионной литографии на водной основе HydroLith. Благодаря этому система отличается большой числовой апертурой, точностью позиционирования до 4,6-нм и производительностью, равной 131 пластине в час.

Как ожидается, основными покупателями TWINSCAN XT:1900i станут ведущие мировые производители чипов памяти и логических микросхем, однако конкретные имена пока не называются.

Источник новости: Phys Org