Samsung установит первый прорывной High-NA EUV инструмент к концу 2024 года

Samsung намерена сделать шаг вперед в производстве полупроводников благодаря установке первого инструмента для литографии High-NA EUV. По данным Seoul Economic Daily, установка ASML Twinscan EXE:5000 с числовой апертурой 0,55 (NA) запланирована на период с 4 квартала 2024 года по 1 квартал 2025 года в кампусе Samsung в Хвасоне.