Гигант компьютерной индустрии, компания Intel Corporation, планирует вложить около 2 миллиардов долларов в постройку нового завода по производству микросхем в Орегоне. Строительство должно начаться этим летом. Компания продемонстрировала проект трёхэтажного здания общей площадью около 19.5 тысяч квадратных метров. По плану к осени должен быть готов железобетонный каркас здания и часть помещений. В настоящий момент индустрия производства микросхем переживает не лучшие времена, однако, как сказал Билл МакКензи (Bill MacKenzie), пресс-секретарь компании Intel, завод начнёт работу не ранее 2003-го года, когда худшее будет позади. Стратегия Intel предполагает создание нового завода, отладку на нём новых технологий и последующее быстрое выведение завода на большую мощность. Так весной, в соответствии с этой стратегией, начал работу новый завод D1C, на котором Intel впервые использовала 0.13-микронную технологию на больших 300-миллиметровых кремниевых пластинах. Новый завод, известный как D1D, также будет использовать 300-миллиметровые пластины Источник новости: dailynews.yahoo.com