Россия разрабатывает технологию производства 7-нанометровых полупроводников

Пока что Россия способна массово выпускать полупроводники в лучшем случае по 65-нм техпроцессу, но чаще в производстве находятся 90-нанометровые изделия. Оно и понятно, на эту отрасль акцента никогда не было.

Хоть первый прототип и готов, специалисты института сообщили, что полноценное промышленное оборудование по выпуску чипов по 7-нм техпроцессу (и более тонкого) будет создаваться в три этапа, на которые уйдет около шести лет.

Так, к 2024 году они планируют представить “альфа-машину”. Это будет установка представленная в виде рабочего оборудования с возможностью выполнения всего цикла производственных операций, а также полной реализацией всех необходимых систем.

Далее, уже к 2026 году выйдет “бета-машина”. Там уже все системы и компоненты будут доработаны, улучшены и максимально автоматизированы. Эту установку планируют задействовать на крупных производствах и в реальных техпроцессах. Такой подход позволит полностью отладить выпуск микрочипов на данном оборудовании.

И на заключительном этапе разработки, который рассчитан на период с 2026 по 2028 годы, российское литографическое оборудование оснастят более мощным источником излучения, он будет доработан системами позиционирования, а также подачи.