В России к 2026 году разработают лазерный литограф для чипов 350-нм

Заместитель министра промышленности и торговли России Василий Шпак рассказал о разработке отечественной лазерной установки для литографии. По его словам, первая установка будет готова не раньше 2026 года, и это сделает Россию третьей страной в мире, производящей такие технологии, после Японии и США, где работают компании GigaPhoton и Cymer.

На данный момент специалисты ГК «Лассард» уже создали два прототипа лазера, которые начнут проходить испытания в следующем году. К 2026 году планируется запустить массовое производство этих установок. Новый литографический лазер будет использоваться в оборудовании для создания полупроводников с нормами 350 нм, а затем и для более современных стандартов в 130 нм.

Кроме того, Шпак отметил, что ведутся работы над освоением более тонких техпроцессов. Разрабатываются необходимые материалы, а также проводятся предварительные работы по установкам для производства на 90 и 65 нм, что расширит возможности отечественной полупроводниковой промышленности.