В России создали первый отечественный фотолитограф с разрешением 350 нм

Фотолитограф — это ключевое оборудование для производства микросхем. До сих пор в мире меньше десяти стран могли создавать такие устройства. Теперь к ним присоединилась и Россия. По словам Собянина, это важный шаг к развитию отечественной микроэлектроники и снижению зависимости от зарубежных технологий.

Новый аппарат создан компанией-резидентом особой экономической зоны «Технополис Москва» в сотрудничестве с белорусским заводом. В нем используется твердотельный лазер, что отличает его от зарубежных аналогов.

Кроме того, в России уже идет работа над фотолитографом с разрешением 130 нанометров. Его планируют завершить к 2026 году, сообщил мэр столицы.